Crecimiento y caracterización de películas delgadas de carbón por la técnica MWCVD - Microwave Chemical Vapor Deposition

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Fecha

2011

Autores

Arenas Correa, Mónica

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Editor

Universidad EAFIT

Resumen

Descripción

Palabras clave

Plasma (Gases Ionizados) , Proyecto de Grado. Ingeniería Física , Nanotubos , Carbón , Análisis de Carbón , Deposición química por vapor (CVD)

Citación

URI

http://hdl.handle.net/10784/2808

Colecciones

Ingeniería Física (trabajo de grado)