Examinando por Autor "Ocampo, J.M.J."

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    Comparative studies of the feed gas composition effects on the characteristics of DLC films deposited by magnetron sputtering
    (ELSEVIER SCIENCE SA, 2004-07-01) Libardi, J.; Grigorov, K.; Massi, M.; Otani, C.; Ravagnani, S.P.; Maciel, H.S.; Guerino, M.; Ocampo, J.M.J.; Libardi, J.; Grigorov, K.; Massi, M.; Otani, C.; Ravagnani, S.P.; Maciel, H.S.; Guerino, M.; Ocampo, J.M.J.; Universidad EAFIT. Departamento de Ciencias; Electromagnetismo Aplicado (Gema)
    Mixtures of acetylene/argon and methane/argon with different volume percents of hydrocarbon were used as the precursor gas to grow DLC films, keeping constant the other process parameters. The substrates used were p-type (100) silicon wafers. The films were characterized by Raman spectroscopy, nanoindentation, atomic force microscopy (AFM) and by a profilometer. In order to grow DLC films with special properties that could make this material an alternative candidate for applications in micro-electromechanical systems (MEMS) production, a comparative analysis focused on the influence of the hydrocarbon precursor gas mixture on the mechanical and chemical properties of the DLC films is reported. © 2004 Elsevier B.V. All rights reserved.
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    Dielectric properties of poly(vinyl alcohol) hydrogels prepared by freezing/thawing technique
    (Escuela de Ingeniería de Antioquia, 2012-07-01) Londoño, Martha Elena; Ocampo, J.M.J.; Sabater, Roser; Vélez, Juan Manuel; Universidad EAFIT. Departamento de Ciencias Básicas; Electromagnetismo Aplicado (Gema)
    Por medio de espectroscopia dieléctrica (DRS) y calorimetría diferencial de barrido (DSC) se investigaron las propiedades dieléctricas de los hidrogeles de alcohol polivinílico -PVA- entrecruzados por ciclos repetidos de la técnica congelamiento/descongel
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    Diseño e implementación de un reactor PECVD para producir películas delgadas a partir de un horno microondas casero
    (Universidad de Tarapaca, 2015-01-01) Arroyave, M.; Ocampo, J.M.J.; Arenas, Monica; Jaramillo, Juliana; saldarriaga, Clarita; Londoño, Valentina; Universidad EAFIT. Departamento de Ciencias Básicas; Electromagnetismo Aplicado (Gema)
    El presente trabajo describe el desarrollo y la implementación de un reactor de deposición química de vapor asistido por plasma PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition). La construcción se realizó a partir del diseño de los diferentes componentes