Diseño e implementación de un reactor PECVD para producir películas delgadas a partir de un horno microondas casero
Fecha
2015-01-01
Autores
Arroyave, M.
Ocampo, J.M.J.
Arenas, Monica
Jaramillo, Juliana
saldarriaga, Clarita
Londoño, Valentina
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Título de la revista
ISSN de la revista
7183305
Título del volumen
Editor
Universidad de Tarapaca
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Resumen
El presente trabajo describe el desarrollo y la implementación de un reactor de deposición química de vapor asistido por plasma PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition). La construcción se realizó a partir del diseño de los diferentes componentes