Diseño e implementación de un reactor PECVD para producir películas delgadas a partir de un horno microondas casero

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dc.citation.journalTitleIngeniare
dc.contributor.authorArroyave, M.
dc.contributor.authorOcampo, J.M.J.
dc.contributor.authorArenas, Monica
dc.contributor.authorJaramillo, Juliana
dc.contributor.authorsaldarriaga, Clarita
dc.contributor.authorLondoño, Valentina
dc.contributor.departmentUniversidad EAFIT. Departamento de Ciencias Básicas
dc.contributor.researchgroupElectromagnetismo Aplicado (Gema)spa
dc.date.accessioned2021-03-23T21:39:32Z
dc.date.available2021-03-23T21:39:32Z
dc.date.issued2015-01-01
dc.description.abstractEl presente trabajo describe el desarrollo y la implementación de un reactor de deposición química de vapor asistido por plasma PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition). La construcción se realizó a partir del diseño de los diferentes componentesspa
dc.identifierhttps://eafit.fundanetsuite.com/Publicaciones/ProdCientif/PublicacionFrw.aspx?id=4949
dc.identifier.issn7183305spa
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/10784/27161
dc.language.isospaeng
dc.publisherUniversidad de Tarapaca
dc.rightshttps://v2.sherpa.ac.uk/id/publication/issn/0718-3305
dc.sourceIngeniare
dc.subject.keywordPECVDspa
dc.subject.keywordmicroondasspa
dc.subject.keywordpelículas delgadasspa
dc.subject.keywordDLCspa
dc.subject.keywordsimulación numérica.spa
dc.titleDiseño e implementación de un reactor PECVD para producir películas delgadas a partir de un horno microondas caserospa
dc.typearticleeng
dc.typeinfo:eu-repo/semantics/articleeng
dc.typeinfo:eu-repo/semantics/publishedVersioneng
dc.typepublishedVersioneng
dc.type.localArtículospa

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