Artículos (Gema)

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Diseño e implementación de un reactor PECVD para producir películas delgadas a partir de un horno microondas casero
(Universidad de Tarapaca, 2015-01-01) Arroyave, M.; Ocampo, J.M.J.; Arenas, Monica; Jaramillo, Juliana; saldarriaga, Clarita; Londoño, Valentina; Universidad EAFIT. Departamento de Ciencias Básicas; Electromagnetismo Aplicado (Gema)
El presente trabajo describe el desarrollo y la implementación de un reactor de deposición química de vapor asistido por plasma PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition). La construcción se realizó a partir del diseño de los diferentes componentes