Condiciones óptimas y análisis de sensibilidad para el diseño de un elemento óptico difractivo para litografía por escritura directa

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dc.contributor.advisorCadavid, Juan Joséspa
dc.contributor.advisorJaramillo Ocampo, Juan Manuelspa
dc.contributor.authorCortés Gálvez, Jaime Eduardo
dc.coverage.spatialMedellín de: Lat: 06 15 00 N degrees minutes Lat: 6.2500 decimal degrees Long: 075 36 00 W degrees minutes Long: -75.6000 decimal degreeseng
dc.creator.degreeMagíster en Física Aplicadaspa
dc.creator.emailjaime.cortes@gmail.comspa
dc.date.accessioned2020-02-11T17:50:41Z
dc.date.available2020-02-11T17:50:41Z
dc.date.issued2019
dc.descriptionEn este trabajo se desarrolló un software que permite modificar la fase y la geometría de un elemento óptico difractivo. Adicionalmente se desarrolló un propagador de espectro angular que imprime en el plano focal un patrón de difracción. Una vez formado el patrón de difracción se midió el “Full Width Half Maximun” para obtener la resolución alcanzada. El propagador no supera la complejidad algorítmica 𝑂(𝑛2). El orden que se seguirá es el siguiente: primero se realizará una análisis del estado del arte para observar como se han modificado los elementos ópticos difractivos tanto en su fase como en su geometría, luego se procederá a revisar la literatura en cuanto a las alternativas de propagadores que se han implementado para el análisis del campo óptico, se revisará la forma de medir el patrón de difracción formado en el plano focal de interés y se concluirá con los parámetros de fabricación óptimos para el elemento óptico difractivo diseñado. En la sección 3 de este trabajo se plantean los objetivos de investigación, en la sección 4 se describe la importancia del software de simulación y diseño desarrollado. En la sección 5 se realiza un análisis del estado del arte de dos elementos ópticos difractivos, la placa zonal de Fresnel y los Photon Sieve. En la sección 6 se explica en el marco teórico como se construye una placa zonal de Fresnel y cuáles son los criterios para su diseño. En esta misma sección se da una explicación de como construir un Photon Sieve o tamiz de fotones y sus factores importantes de diseño. Luego se presenta el método de propagación del campo óptico, el propagador del espectro angular y se da una breve discusión de porque se eligió este propagador. En la sección 7 se presentan los materiales y métodos que serán utilizados para desarrollar el software de simulación para el diseño de elementos ópticos difractivos. En la sección 8 se da una breve discusión y análisis de resultados. En la sección 9 se describen los módulos que conforman el software, en la sección 10 se presentan las conclusiones, en la sección 11 se presentan trabajos futuros y en la última sección la bibliografía.spa
dc.identifier.ddc621.04 C828
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/10784/15694
dc.language.isospaspa
dc.publisherUniversidad EAFITspa
dc.publisher.departmentEscuela de Ciencias. Departamento de Ciencias Básicasspa
dc.publisher.placeMedellínspa
dc.publisher.programMaestría en Física Aplicadaspa
dc.rights.accessrightsinfo:eu-repo/semantics/openAccessspa
dc.rights.localAcceso abiertospa
dc.subjectCondiciones óptimasspa
dc.subjectElemento óptico difractivospa
dc.subjectAnálisis de sensibilidadspa
dc.subjectPropagador de espectro angularspa
dc.subjectComplejidad algorítmicaspa
dc.subject.keywordFull Width Half Maximunspa
dc.subject.lembMATEMÁTICAS PARA INGENIEROSspa
dc.subject.lembFÍSICA MATEMÁTICAspa
dc.subject.lembINSTRUMENTOS ÓPTICOSspa
dc.subject.lembINDUSTRIA ÓPTICAspa
dc.subject.lembINGENIERÍA DEL SOFTWAREspa
dc.titleCondiciones óptimas y análisis de sensibilidad para el diseño de un elemento óptico difractivo para litografía por escritura directaspa
dc.typemasterThesiseng
dc.typeinfo:eu-repo/semantics/masterThesiseng
dc.type.hasVersionacceptedVersioneng
dc.type.localTesis de Maestríaspa

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