Diseño e implementación de un reactor PECVD para producir películas delgadas a partir de un horno microondas casero
dc.citation.journalTitle | Ingeniare | |
dc.contributor.author | Arroyave, M. | |
dc.contributor.author | Ocampo, J.M.J. | |
dc.contributor.author | Arenas, Monica | |
dc.contributor.author | Jaramillo, Juliana | |
dc.contributor.author | saldarriaga, Clarita | |
dc.contributor.author | Londoño, Valentina | |
dc.contributor.department | Universidad EAFIT. Departamento de Ciencias Básicas | |
dc.contributor.researchgroup | Electromagnetismo Aplicado (Gema) | spa |
dc.date.accessioned | 2021-03-23T21:39:32Z | |
dc.date.available | 2021-03-23T21:39:32Z | |
dc.date.issued | 2015-01-01 | |
dc.description.abstract | El presente trabajo describe el desarrollo y la implementación de un reactor de deposición química de vapor asistido por plasma PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition). La construcción se realizó a partir del diseño de los diferentes componentes | spa |
dc.identifier | https://eafit.fundanetsuite.com/Publicaciones/ProdCientif/PublicacionFrw.aspx?id=4949 | |
dc.identifier.issn | 7183305 | spa |
dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/10784/27161 | |
dc.language.iso | spa | eng |
dc.publisher | Universidad de Tarapaca | |
dc.rights | https://v2.sherpa.ac.uk/id/publication/issn/0718-3305 | |
dc.source | Ingeniare | |
dc.subject.keyword | PECVD | spa |
dc.subject.keyword | microondas | spa |
dc.subject.keyword | películas delgadas | spa |
dc.subject.keyword | DLC | spa |
dc.subject.keyword | simulación numérica. | spa |
dc.title | Diseño e implementación de un reactor PECVD para producir películas delgadas a partir de un horno microondas casero | spa |
dc.type | article | eng |
dc.type | info:eu-repo/semantics/article | eng |
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dc.type.local | Artículo | spa |