Diseño e implementación de un reactor PECVD para producir películas delgadas a partir de un horno microondas casero
Fecha
2015-01-01
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Editor
Universidad de Tarapaca
Resumen
El presente trabajo describe el desarrollo y la implementación de un reactor de deposición química de vapor asistido por plasma PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition). La construcción se realizó a partir del diseño de los diferentes componentes