2019-11-222014-06-242256-43141794-9165http://hdl.handle.net/10784/14396Alq3 (tris (8-hydroxyquinolate) aluminum) thin films were deposited on glass by thermal evaporation in order to establish the optimal evaporation rates of thin films deposited between 30 to 120nm on a substrate with temperatures between 60 and 120°C. TheLas películas delgadas de Alq3 (aluminio tris (8-hidroxiquinolato)) se depositaron sobre el vidrio por evaporación térmica para establecer las velocidades de evaporación óptimas de las películas delgadas depositadas entre 30 y 120 nm en un sustrato con teapplication/pdfspaCopyright (c) 2014 R. P. Adames, J A Segura, D P Gómez, A M Ardilaarticleinfo:eu-repo/semantics/openAccessThin FilmThermal EvaporationSubstrateCharacterizationOrganic SemiconductorPelícula DelgadaEvaporación TérmicaSustratoCaracterizaciónSemiconductor OrgánicoAcceso abierto2019-11-22Adames, R. P.Segura, J AGómez, D PArdila, A M10.17230/ingciencia.10.20.3