Diseño e implementación de un reactor PECVD para producir películas delgadas a partir de un horno microondas casero

2021-03-232015-01-017183305http://hdl.handle.net/10784/27161El presente trabajo describe el desarrollo y la implementación de un reactor de deposición química de vapor asistido por plasma PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition). La construcción se realizó a partir del diseño de los diferentes componentesspahttps://v2.sherpa.ac.uk/id/publication/issn/0718-3305Diseño e implementación de un reactor PECVD para producir películas delgadas a partir de un horno microondas caseroarticlePECVDmicroondaspelículas delgadasDLCsimulación numérica.2021-03-23Arroyave, M.Ocampo, J.M.J.Arenas, MonicaJaramillo, Julianasaldarriaga, ClaritaLondoño, Valentina