2014-03-072013-01Giraldo L, Velasquez D, "Obtención de estructuras de relieve en materiales de registro de haluros de plata" Opt. Pura Ap. . 46 (4) 363-368 (2013) http://www.sedoptica.es/Menu_Volumenes/Pdfs/OPA46-4-363.pdf0030-3917http://hdl.handle.net/10784/1367Se registraron rejillas de difracción de transmisión en película AGFA 8E75, tratadas químicamente bajo procesos convencionales con D-19 + ferrocianuro de potasio y una técnica de procesamiento químico desarrollada para película PE-2, para la obtención de franjas con relieve. Las estructuras holográficas fueron medidas topográficamente mediante la técnica de microscopía de fuerza atómica en modo no contacto (AFM-NC) y se observan cambios en las profundidades bajo variaciones en las exposiciones y la fotoquímica utilizada. Se encuentra que el mejor rendimiento en términos de profundidad de relieve obtenido está dado por un proceso tradicional con el cual se alcanzaron profundidades entre 0,15 y 0,3 m para densidades ópticas y frecuencias espaciales bajas. En este trabajo evaluamos la posibilidad de obtener matrices de relieve en haluros de plata para procesos de réplica de hologramas.Diffraction transmission gratings were recorded in AGFA-8E75 film, chemically treated under processes with D-19 + potassium ferrocyanide and a chemical processing technique proposed for PE-2 film to obtain embossed stripes. Holographic structures were measured topographically by the technique of atomic force microscopy in noncontact mode (NC-AFM) and we observe changes in the depths under variations in exposures and used photochemistry. We find that the best performance in terms of relief depth obtained is given by the conventional process which reached depths between 0.15 m and 0.3 m for spatial frequencies of the order of 400Se registraron rejillas de difracción de transmisión en película AGFA 8E75, tratadas químicamente bajo procesos convencionales con D-19 + ferrocianuro de potasio y una técnica de procesamiento químico desarrollada para película PE-2, para la obtención de franjas con relieve. Las estructuras holográficas fueron medidas topográficamente mediante la técnica de microscopía de fuerza atómica en modo no contacto (AFM-NC) y se observan cambios en las profundidades bajo variaciones en las exposiciones y la fotoquímica utilizada. Se encuentra que el mejor rendimiento en términos de profundidad de relieve obtenido está dado por un proceso tradicional con el cual se alcanzaron profundidades entre 0,15 y 0,3 m para densidades ópticas y frecuencias espaciales bajas. En este trabajo evaluamos la posibilidad de obtener matrices de relieve en haluros de plata para procesos de réplica de hologramas.spaMicroscopía de Fuerza Atómica (AFM)Rejillas HolográficasRedes de BraggFotoquímicaHaluros de Platainfo:eu-repo/semantics/articleinfo:eu-repo/semantics/openAccessAtomic Force Microscopy (AFM)Holographic GratingsBragg GratingsPhotochemical Silver HalidesMicroscopía de Fuerza Atómica (AFM)Rejillas HolográficasRedes de BraggFotoquímicaHaluros de PlataAcceso abierto2014-03-07Giraldo, L.MVelásquez, D.Giraldo, L.MVelásquez, D.