2019-11-222014-06-242256-43141794-9165http://hdl.handle.net/10784/14397TixAl1-xN coatings were grown using the triode magnetron sputtering technique varying the bias voltage between -40 V and -150V. The influence of bias voltage on structural and morphological properties was analyzed by means of energy dispersive spectroscopLos recubrimientos TixAl1-xN se cultivaron usando la técnica de pulverización catódica con magnetrón triodo, variando el voltaje de polarización entre -40 V y -150V. La influencia del voltaje de polarización en las propiedades estructurales y morfológicasapplication/pdfengCopyright (c) 2014 D M Devia, E Restrepo-Parra, J M Vélez-Restrepoarticleinfo:eu-repo/semantics/openAccessTialnBias VoltageSputteringAtomic PercentageXrdTialnVoltaje De PolarizaciónPulverización CatódicaPorcentaje AtómicoDrxAcceso abierto2019-11-22Devia, D MRodriguez-Restrepo, L. VRestrepo-Parra, E10.17230/ingciencia.10.20.4