α-MoO3 thin films prepared by spray pyrolysis
Fecha
2011-12-01
Autores
Martínez, H M
Torres, J
López-Carreño, L D
Alfonso, J E
Moreno, Luis
Pardo, A
Título de la revista
ISSN de la revista
Título del volumen
Editor
Universidad EAFIT
Resumen
Descripción
In this work thin films of molybdenum trioxide (MoO3) were prepared by the pyrolytic atomization technique. The films were deposited on glass substrates and obtained from a precursor solution of Tetrahydrate Ammonium Heptamolybdate ((NH3) 6Mo7O24.4H2O) 0.1 M. The substrate temperature was kept constant at 400 oC and the volume of the solution was varied precursor The samples were characterized by X-ray diffraction (XRD), infrared spectroscopy, Scanning Electron Microscopy (SEM) and electrically through measurements of electrical resistivity as a function of temperature. The samples grow with crystalline structure corresponding to the alpha phase of MoO3 with preferential direction of growth along the planes (0k0). As the volume of the precursor solution increases, the surface of the samples becomes porous. The resistivity in these samples changes in an order of magnitude when they are exposed to the atmosphere of CO.
En este trabajo se prepararon películas delgadas de trióxido de molibdeno (MoO3) por la técnica de atomización pirolítica. Las películas fueron depositadas sobre sustratos de vidrio y obtenidas a partir de una solución precursora de Heptamolibdato de Amonio Tetrahidratado ((NH3)6Mo7O24.4H2O) 0.1 M. La temperatura del sustrato se mantuvo constante en 400 oC y se varío el volumen de la solución precursora. Las muestras se caracterizaron por difracción de Rayos X (XRD), espectroscopía infrarroja, Microscopía Electrónica de Barrido (SEM) y eléctricamente a través de medidas de resistividad eléctrica en función de la temperatura. Las muestras crecen con estructura cristalina correspondiente a la fase alfa del MoO3 con dirección preferencial de crecimiento a lo largo de los planos (0k0). Al aumentar el volumen de la solución precursora la superficie de las muestras se vuelve porosa. La resistividad en estas muestras cambia en un orden de magnitud cuando son expuestas a la atmosfera de CO.
En este trabajo se prepararon películas delgadas de trióxido de molibdeno (MoO3) por la técnica de atomización pirolítica. Las películas fueron depositadas sobre sustratos de vidrio y obtenidas a partir de una solución precursora de Heptamolibdato de Amonio Tetrahidratado ((NH3)6Mo7O24.4H2O) 0.1 M. La temperatura del sustrato se mantuvo constante en 400 oC y se varío el volumen de la solución precursora. Las muestras se caracterizaron por difracción de Rayos X (XRD), espectroscopía infrarroja, Microscopía Electrónica de Barrido (SEM) y eléctricamente a través de medidas de resistividad eléctrica en función de la temperatura. Las muestras crecen con estructura cristalina correspondiente a la fase alfa del MoO3 con dirección preferencial de crecimiento a lo largo de los planos (0k0). Al aumentar el volumen de la solución precursora la superficie de las muestras se vuelve porosa. La resistividad en estas muestras cambia en un orden de magnitud cuando son expuestas a la atmosfera de CO.