Diseño e implementación de un reactor de deposición química de vapor para producir películas delgadas

Vista sencilla de ítem
dc.citation.journalTitleIngeniare
dc.contributor.authorArroyave, Mauricio
dc.contributor.departmentUniversidad EAFIT. Departamento de Ciencias Básicas
dc.contributor.researchgroupElectromagnetismo Aplicado (Gema)spa
dc.date.accessioned2021-03-23T21:39:35Z
dc.date.available2021-03-23T21:39:35Z
dc.date.issued2015-01-01
dc.identifierhttps://eafit.fundanetsuite.com/Publicaciones/ProdCientif/PublicacionFrw.aspx?id=12772
dc.identifier.issn7183305spa
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/10784/27191
dc.language.isospaeng
dc.publisherUniversidad de Tarapaca
dc.rightshttps://v2.sherpa.ac.uk/id/publication/issn/0718-3305
dc.sourceIngeniare
dc.titleDiseño e implementación de un reactor de deposición química de vapor para producir películas delgadasspa
dc.typearticleeng
dc.typeinfo:eu-repo/semantics/articleeng
dc.typeinfo:eu-repo/semantics/publishedVersioneng
dc.typepublishedVersioneng
dc.type.localArtículospa

Archivos

Colecciones

Artículos (Gema)