Plasma etching of DLC films for microfluidic channel

Vista sencilla de ítem
dc.citation.journalTitleMicroelectronics
dc.contributor.authorJARAMILLO, JUAN MANUEL
dc.contributor.departmentUniversidad EAFIT. Departamento de Ciencias Básicas
dc.contributor.researchgroupElectromagnetismo Aplicado (Gema)spa
dc.date.accessioned2021-03-23T21:39:36Z
dc.date.available2021-03-23T21:39:36Z
dc.date.issued2003-01-01
dc.identifierhttps://eafit.fundanetsuite.com/Publicaciones/ProdCientif/PublicacionFrw.aspx?id=13287
dc.identifier.issn0262692spa
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/10784/27198
dc.language.isoengeng
dc.sourceMicroelectronics
dc.titlePlasma etching of DLC films for microfluidic channeleng
dc.typearticleeng
dc.typeinfo:eu-repo/semantics/articleeng
dc.typeinfo:eu-repo/semantics/publishedVersioneng
dc.typepublishedVersioneng
dc.type.localArtículospa

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